Electro Static Chuck for a semiconductor equipment protecting a edge of wafer

웨이퍼 주변을 보호하는 반도체 장비용 정전척

  • Inventors:
  • Assignees: 주식회사 코미코
  • Publication Date: August 14, 2009
  • Publication Number: KR-100912003-B1

Abstract

본 발명은 반도체 제조 장치 중 전공정 장비인 에쳐(etcher), 씨브이디(CVD) 장비에 사용되는 정전척에 관한 것으로, 구체적으로는 할로겐 가스를 많이 사용하는 에칭이나 CVD(Chemical vapor deposition) 공정에 의한 반응 생성물의 발생 또는 플라즈마에 의한 정전척 주변 부분의 식각 발생을 방지하도록 구성된 정전척에 관한 것이다. 정전척, 상부 절연체, 하부 절연체.

Claims

Description

Topics

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Patent Citations (4)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    JP-H10125769-AMay 15, 1998Matsushita Electron Corp, 松下電子工業株式会社Electrostatic chuck electrode structure
    KR-20010091088-AOctober 23, 2001윤종용, 삼성전자 주식회사정전 척
    KR-20020014722-AFebruary 25, 2002가부시키가이샤 크리에이티브 테크놀러지, 가와무라 산교 가부시키가이샤Electrostatic chucking device and manufacturing method thereof

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